为了满足客户1》反面切割Wafer 2》上下两片Wafer Bonder,对位Bond Line 3》Wafer Bumping后，看Marking Mismatch的需求，我公司设计完工了上下齐焦显微镜，并申请了。
1. 特殊的Wafer Holder 静电吸附台，防wafer Wapage，并能满足上下齐焦的要求
2. 特殊的平台特征点设计，方便操作使用
3. 影像合成精度在10um以内
4. 放大倍率在20-150X
——无锡世迈科技检测系统解决方案——
无锡世迈科技为您提供奥林巴斯工业显微镜设备及配件，适应新产品、新工艺需求的设备。
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